多腔室多工艺真空互联设备
目前在微纳加工、二维材料、MEMS传感器等前沿科研领域,进口厂商的 Cluster多腔真空互联设备长期占据高端市场,但其设备造价高昂、定制周期漫长、本地化运维响应滞后,难以适配国内高校、科研院所多工艺迭代、轻量化定制、售后快速响应的需求。作为国内专精特新高新技术企业,赛威科光电(SVAC)立足本土科研工艺痛点,对标国际集群式真空平台架构,自主研发多腔室多工艺 PVD 真空互联系统,实现全流程真空连续制备,为国内科研领域提供国产化高端真空集群解决方案,补齐国产多腔体互联镀膜设备技术短板。

传统设备缺陷及整机工艺覆盖能力
传统单腔体多功能镀膜设备存在先天工艺缺陷:多种靶材、等离子处理、热处理模块共腔运行,极易引发金属、有机、氧化物材料交叉污染;样品转移需反复破真空导致表面吸附水汽、碳氢杂质,直接破坏材料以及超薄纳米膜层界面纯度;全程人工上下片、切换工艺,实验重复性差,批量研发废品率居高不下。国际主流集群设备采用分腔独立工艺、机械手真空传输架构,而赛威科光电在此基础上结合国内科研场景完成本土化技术迭代,打造优势集群平台,可按需集成电子束蒸发、磁控溅射、ALD 原子层沉积、ICP/RIE 等离子刻蚀、高温退火、样品翻转、进样缓冲腔等全品类功能单元,覆盖从表面清洗、多层薄膜沉积到后处理退火全链条工艺需求。

硬件架构、自动化工艺与多规格机型
从硬件架构,真空互联平台对标进口厂家,六边形中央传输布局,采用独立工艺腔体物理隔离设计,彻底隔绝不同镀膜材料交叉污染风险,规避人工操作带来的工艺偏差。系统搭载高精度全自动真空机械手传输模组,搭配智能工艺调度控制系统,可根据用户预设实验流程自动匹配对应腔体、功率、温度、气体参数,实现全程不破真空一键式连续制备,样品自进样室载入后,全程处于高真空洁净环境,杜绝大气暴露引起界面缺陷,大幅提升薄膜均匀度、批次重复性,各项工艺稳定性指标对标进口厂商集群设备水平。平台提供标准化多规格配置方案,包含电子束、磁控溅射、刻蚀、退火、ALD、翻转等,满足多工艺平台搭建全场景需求。

模块化拓展设计与全周期成本优势
相较于海外设备封闭固化的腔体设计,SVAC 核心创新在于全系统标准化拓展接口,采用模块化插拔式腔体结构,客户可先采购基础沉积腔体开展研究,后续随科研方向新增 ALD、等离子刻蚀、退火等工艺模块,无需整机更换,大幅降低科研投入成本。从周期成本维度对比,进口多腔集群设备初期采购成本、年度运维费用、配件更换成本均显著偏高;SVAC设备虽然初期投入高于传统单腔镀膜机,但依托本土供应链与自主核心真空部件,整机采购价格仅为进口设备 50%-65%,自动化运行减少人工值守成本,针对多项目、多材料、多层膜器件长期研发场景,综合使用成本优势突出。

自研核心技术与下游应用场景
在技术落地层面,赛威科光电研发团队拥有浙大、复旦技术人员,攻克了超高真空、精密机械手运动控制、等离子源稳定调控等核心技术,系统极限真空、腔体漏率、温度控温精度、薄膜厚度均匀性等关键性能参数均达到国际同级别设备标准。设备广泛服务于国内 985/211 高校材料学院、中科院各研究所、二维半导体与光电器件研发企业,适配二维材料、光电器件、柔性薄膜、微纳传感器、先进封装薄膜等前沿方向。

行业趋势与国产化替代价值
当前国内真空互联设备国产化替代进程持续提速,科研端对高集成、可拓展、高稳定性集群式镀膜系统需求快速增长。浙江赛威科光电多腔室 PVD 真空互联平台跳出单纯复刻海外设备的研发思路,立足国内工艺迭代、运维服务的实际需求,平衡高端工艺性能与本土化成本、定制化服务能力,为国内前沿薄膜科学研究提供高性价比、可长期迭代的国产真空集群装备,加速高端镀膜设备自主可控进程。

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